我的一九八五第一三八七章 折中方案

“各位董事要是EUV LLC联盟在未来二年内从理论上证明研制EUV光刻机的技术可行将这个宝贵的机会和重任交给GCA公司不可能放弃但投资巨大半导体产业陷入衰退又不可避免避免两线作战造成资金捉襟见肘我们只能将重心放在EUV光刻机的研制上。

我建议艾德里安先生和汤普森院长出面找SVG商谈联合开发157nm激光器。

” 孙健估计EUV LLC联盟在明年底前就能证明制造EUV光刻机在理论上的可行性但EUV光刻机量产最起码还需要10年如今也不能告诉大家到时由BSEC免费提供193nm浸没式光刻机专利技术给GCA。

BSEC是在GCA拥有的第一代193nmArF准分子激光器专利技术基础上研发成功193nm浸没式光刻机技术核心还是GCA拥有技术专利的193nm准分子激光器GCA研制的第二代、第三代193nm准分子激光器也授权BSEC技术；虽然浸没式光刻技术属于BSEC重新开发的公司发明专利但按照当初签订的专利技术授权转让合同要免费授权给GCA使用就像GCA去年研发成功的第三代（12英寸晶圆、90nm制程工艺）磁悬浮式双工作台系统专利还是属于BSEC授权GCA免费使用。

1.5um-800nm制程工艺的光刻机配套6英寸晶圆500nm-180nm制程工艺光刻机配套8英寸晶圆90nm以下的都配套12英寸晶圆相配套的磁悬浮工作台系统分别称为第一代、第二代、第三代一代中还有子代核心技术还是BSEC拥有公司发明专利的第一代。

GCA研发成功第二代、第三代磁悬浮式双工作台系统通过夏季常院士领导的光刻机自动化研究所改进后青出于蓝而胜于蓝返还GCA使用授权其他光刻机公司升级。

BSEC光刻机自动化研究所将来研制为12英寸晶圆、65nm制程工艺浸没式光刻机配套的磁悬浮式双工作台系统将称为第四代10nm称为第五代、7nm称为第六代……BSEC拥有的磁悬浮式双工作台系统的公司发明专利不会失效。

两家公司虽然都是孙健控股手背手心都是肉但严格按照两国法律办事不会留下被人攻击的把柄。

以GCA如今的江湖地位、财力和技术实力愿意同SVG联合开发157nm激光器对双方都有利如何说服Papken同意就不是孙健关心的事了。

“好的董事长！” “好的董事长！” 孙董事长同意两条腿走路艾德里安和汤普森放心了他俩有信心说服Papken。

其他董事也露出笑容。

孙健也没办法说服公司高层放弃研究157nm激光器只能折中。

1999年财报显示SVG的销售收入只有2.7亿美元不到GCA的5%157nm激光器技术路线在前世已被证明没有远大前途孙健不能明说也说不清楚正好借这次董事会的机会否决了GCA高层打算投资10亿美元收购SVG的意向。

前世为了能进入EUV LLC联盟给美国政府一份投名状ASML花费16亿美元收购了市值10亿美元的SVG拿到了157nm激光器需要配置的反折射镜头技术由于已经研发成功193nm浸没式光刻机技术光刻效果超过Nikon的157nm光刻机技术SVG的157nm激光器技术被束之高阁。

前世Nikon费尽心机在ASML研究成功193nm浸没式光刻机二年后也研制成功157nm激光器攻克了193nm波长的世界级难题研制成功65nm制程工艺光刻机但光刻效果不如65nm制程工艺的ASML浸没式光刻机好Intel、台积电和三星等三家全球最重要的光刻机客户不买账Nikon不得不另起炉灶重新开始研发浸没式光刻机Nikon技术实力雄厚竟然也研制成功但一去一回耽误了三、四年的时间高端光刻机市场被ASML占据了随着EUV光刻机面世超高端光刻机市场也被ASML垄断日本举国之力也没有研制成功EUV光刻机Nikon丧失了同ASML竞争的资格在中端光刻机市场混日子。

光刻机产业和晶圆制造产业都属于劳动密集型和资金密集型产业优胜劣汰前世全球只剩下3、4家！ BSEC将来能否研制成功EUV光刻机不是孙健操心的事情尽力就够了！ 累死了痛苦会留给家人！ 重生者也不想当什么英雄! ASML是否投巨资收购SVG？得到其157nm激光器需要配置的反折射镜头技术早日开发成功157nm激光器TIC作为战略投资者不干涉ASML的日常经营活动。

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